|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 206 van 227 gevonden artikelen
| Titel: |
The effect of plasma deposition on the electrical characteristics of Pt/HfOx/TiN RRAM device |
| Auteur: |
Liu, Kou-Chen Tzeng, Wen-Hsien Chang, Kow-Ming Wu, Chi-Hung |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2010) nr. S1 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 206 van 227 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |