|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 71 van 111 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma nitridation of atomic layer deposition (ALD) Al2O3 by NH3 in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) for silicon solar cell |
| Auteur: |
Cho, Young Joon Cha, Hamchorom Chang, Hyo Sik |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 307 (2016) nr. PB pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 71 van 111 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |