|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Advanced etching of silicon based on deep reactive ion etching for silicon high aspect ratio microstructures and three-dimensional micro- and nanostructures |
| Auteur: |
Marty, F. Rousseau, L. Saadany, B. Mercier, B. Français, O. Mita, Y. Bourouina, T. |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 36 () nr. 7 pagina's 673-677 |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 14 gevonden artikelen
| volgende >> |