|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Etch characteristics of HfO2 thin films by using CF4/Ar inductively coupled plasma |
| Auteur: |
Kang, Pil-Seung Woo, Jong-Chang Joo, Young-Hee Kim, Chang-Il |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 93 (2013) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |