|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Etch damage characteristics of TiO2 thin films by capacitively coupled RF Ar plasmas |
| Auteur: |
Kawakami, Retsuo Tominaga, Kikuo Okada, Kenji Nouda, Takahiro Inaoka, Takeshi Takeichi, Atsushi Fukudome, Toshiaki Murao, Kenichi |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 84 (2010) nr. 12 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |