|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 42 gevonden artikelen
| Titel: |
Corrigendum to “Reactive-ion-etching (RIE) process in CF4 plasma as a method of fluorine implantation” [Vacuum 82 (2008) 1046-1050] |
| Auteur: |
Kalisz, Malgorzata Beck, R.B. Ćwil, M. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 83 (2008) nr. 2 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 42 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |