|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 42 gevonden artikelen
| Titel: |
Corrigendum to “Fluorine-doped SiO2 and CF low-k dielectrics obtained during RIE process in fluorine plasmas” [Vacuum 82 (2008) 1040–1045] |
| Auteur: |
Kalisz, Malgorzata Beck, R.B. C´wil, M. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 83 (2008) nr. 2 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 42 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |