|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Diluting and annealing effects on electromigration and morphology of chemical vapor-deposited copper films |
| Auteur: |
Wu, S. Li, X.-F. Liu, X. Wang, Q. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 80 (2006) nr. 8 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |