|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Mo/Si multilayers for EUV lithography by ion beam sputter deposition |
| Auteur: |
Chassé, T. Neumann, H. Ocker, B. Scherer, M. Frank, W. Frost, F. Hirsch, D. Schindler, A. Wagner, G. Lorenz, M. Otto, G. Zeuner, M. Rauschenbach, B. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 71 (2003) nr. 3 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |