|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 60 van 95 gevonden artikelen
| Titel: |
Low damage atomic layer etching technology for gate recessed fabrication |
| Auteur: |
Guo, J.Q. Wei, K. Zhang, S. He, X.Q. Zhang, Y.C. Zhang, R.Z. Wang, J.C. Wang, K.Y. Huang, S. Zheng, Y.K. Wang, X.H. Liu, X.Y. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 217 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 60 van 95 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |