|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 92 gevonden artikelen
| Titel: |
A systematical investigation of layer growth rate, impurity level and morphology evolution in TiO2 thin films grown by ALD between 100 and 300 °C |
| Auteur: |
Xia, Bingbing Ganem, Jean-Jacques Briand, Emrick Steydli, Sébastien Baron-Wiecheć, Aleksandra Wanda Vickridge, Ian |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 216 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 92 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |