|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 32 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
Excellent diffusion barrier property of amorphous NbMoTaW medium entropy alloy thin films used in Cu/Si Connect System |
| Auteur: |
Hu, K. Hu, Q.F. Xu, X. Chen, S.H. Ma, J. Dong, W.W. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 202 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 32 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |