|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Hydrogen microwave plasma etching of silicon dioxide at high temperatures with in situ low-coherence interferometry control |
| Auteur: |
Yurov, V. Yu Bolshakov, A.P. Altakhov, A.S. Fedorova, I.A. Zavedeev, E.V. Popovich, A.F. Ralchenko, V.G. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 199 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |