|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 69 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of process parameters and chamber structure on plasma uniformity in a large-area capacitively coupled discharge |
| Auteur: |
Zhou, Jicheng Liao, Jia Huang, Jing Chen, Techao Lv, Bowen Peng, Yichang |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 195 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 69 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |