|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 32 van 65 gevonden artikelen
| Titel: |
Importance of tailoring the thickness of SiO2 interlayer in the observation of ferroelectric characteristics in yttrium doped HfO2 films on silicon |
| Auteur: |
Sun, Nana Zhou, Dayu Liu, Wenwen Zhang, Yu Li, Shuaidong Wang, Jingjing Ali, Faizan |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 183 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 32 van 65 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |