|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 64 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of plasma properties in normal and multiple holes hollow cathode RF PECVD and their utility in a-SiNx:H thin film deposition |
| Auteur: |
Sahu, B.B. Kim, Seok H. Lee, J.S. Han, Jeon G. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 160 (2019) nr. C pagina's 316-324 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 64 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |