|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 33 van 47 gevonden artikelen
| Titel: |
On the relationships between plasma chemistry, etching kinetics and etching residues in CF4+C4F8+Ar and CF4+CH2F2+Ar plasmas with various CF4/C4F8 and CF4/CH2F2 mixing ratios |
| Auteur: |
Lee, Jaemin Efremov, Alexander Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 148 (2018) nr. C pagina's 214-223 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 33 van 47 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |