Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 16 van 27 gevonden artikelen
 
 
  Influence of channel length and high-K oxide thickness on subthreshold analog/RF performance of graded channel and gate stack DG-MOSFETs
 
 
Titel: Influence of channel length and high-K oxide thickness on subthreshold analog/RF performance of graded channel and gate stack DG-MOSFETs
Auteur: Swain, Sanjit Kumar
Dutta, Arka
Adak, Sarosij
Pati, Sudhansu Kumar
Sarkar, Chandan Kumar
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 61 (2016) nr. C pagina's 6 p.
Jaar: 2016
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 16 van 27 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland