|
Reliability of TSV interconnects: Electromigration, thermal cycling, and impact on above metal level dielectric |
|
|
|
Titel: |
Reliability of TSV interconnects: Electromigration, thermal cycling, and impact on above metal level dielectric |
Auteur: |
Frank, T. Moreau, S. Chappaz, C. Leduc, P. Arnaud, L. Thuaire, A. Chery, E. Lorut, F. Anghel, L. Poupon, G. |
Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
Paginering: |
Jaargang 53 (2013) nr. 1 pagina's 13 p. |
Jaar: |
2013 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|