|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Electrical reliability aspects of HfO2 high-k gate dielectrics with TaN metal gate electrodes under constant voltage stress |
| Auteur: |
Chatterjee, S. Kuo, Y. Lu, J. Tewg, J.-Y. Majhi, P. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 46 (2006) nr. 1 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |