|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 25 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Ultra-shallow n+p junction formed by PH3 and AsH3 plasma immersion ion implantation |
| Auteur: |
Yang, B.L Cheung, N.W Denholm, S Shao, J Wong, H Lai, P.T Cheng, Y.C |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 42 (2002) nr. 12 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 25 van 25 gevonden artikelen
| << vorige |