Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 19 van 20 gevonden artikelen
 
 
  Time-dependent dielectric wearout technique with temperature effect for reliability test of ultrathin (<2.0 nm) single layer and dual layer gate oxides
 
 
Titel: Time-dependent dielectric wearout technique with temperature effect for reliability test of ultrathin (<2.0 nm) single layer and dual layer gate oxides
Auteur: Wu, Yider
Xiang, Qi
Yang, Jean Y.M.
Lucovsky, Gerald
Lin, Ming-Ren
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 40 (2000) nr. 12 pagina's 9 p.
Jaar: 2000
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Science Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 19 van 20 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland