|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Experimental study of the quasi-breakdown failure mechanism in 4.5 nm-thick SiO2 oxides |
| Auteur: |
Goguenheim, D. Bravaix, A. Vuillaume, D. Mondon, F. Candelier, Ph. Jourdain, M. Meinertzhagen, A. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 39 (1999) nr. 2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |