Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 40 van 153 gevonden artikelen
 
 
  Effects of copper and titanium addition to aluminum interconnects on electro- and stress-migration open circuit failures
 
 
Titel: Effects of copper and titanium addition to aluminum interconnects on electro- and stress-migration open circuit failures
Auteur:
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 30 (1990) nr. 3 pagina's 615
Jaar: 1990
Inhoud:
Uitgever: Pergamon Press plc
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 40 van 153 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland