Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 22 van 24 gevonden artikelen
 
 
  Study on gate oxide reliability of SiC power MOSFETs under 300 MeV proton irradiation
 
 
Titel: Study on gate oxide reliability of SiC power MOSFETs under 300 MeV proton irradiation
Auteur: Xu, Jingyi
Wei, Ying
Zhang, Dan
Yu, Xuefeng
Liang, Xiaowen
Guo, Qi
Xiang, Yutang
Feng, Jie
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 169 () nr. C pagina's p.
Jaar: 2025
Inhoud:
Uitgever: The Authors
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 22 van 24 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland