|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of interface trap charges on electrical performance characteristics of a source pocket engineered Ge/Si heterojunction vertical TFET with HfO2/Al2O3 laterally stacked gate oxide |
| Auteur: |
Tripathy, Manas Ranjan Samad, A. Singh, Ashish Kumar Singh, Prince Kumar Baral, Kamalaksha Mishra, Ashwini Kumar Jit, Satyabrata |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 119 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |