Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 2 van 10 gevonden artikelen
 
 
  Comprehensive evaluation of gate-induced drain leakage in SOI stacked nanowire nMOSFETs operating in high-temperatures
 
 
Titel: Comprehensive evaluation of gate-induced drain leakage in SOI stacked nanowire nMOSFETs operating in high-temperatures
Auteur: de Souza, Michelly
Cerdeira, Antonio
Estrada, Magali
Cassé, Mikaël
Barraud, Sylvain
Vinet, Maud
Faynot, Olivier
Pavanello, Marcelo A.
Verschenen in: Solid-state electronics
Paginering: Jaargang 214 () nr. C pagina's p.
Jaar: 2024
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 2 van 10 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland