|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of film thickness and temperature on the resistive switching characteristics of the Pt/HfO2/Al2O3/TiN structure |
| Auteur: |
Liu, Yulin Ouyang, Sha Yang, Jie Tang, Minghua Wang, Wei Li, Gang Zou, Zhi Liang, Yifan Li, Yucheng Xiao, Yongguang Yan, Shaoan Chen, Qilai Li, Zheng |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 173 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 9 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |