|
Impact of pattern dependency of SiGe layers grown selectively in source/drain on the performance of 14nm node FinFETs |
|
|
|
Titel: |
Impact of pattern dependency of SiGe layers grown selectively in source/drain on the performance of 14nm node FinFETs |
Auteur: |
Qin, Changliang Wang, Guilei Kolahdouz, M. Luo, Jun Yin, Huaxing Yang, Ping Li, Junfeng Zhu, Huilong Chao, Zhao Ye, Tianchun Radamson, Henry H. |
Verschenen in: |
Solid-state electronics |
Paginering: |
Jaargang 124 (2016) nr. C pagina's 6 p. |
Jaar: |
2016 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|