|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of thermal atomic layer deposited TiAlX (X=N or C) film as metal gate |
| Auteur: |
Xiang, Jinjuan Zhang, Yanbo Li, Tingting Wang, Xiaolei Gao, Jianfeng Yin, Huaxiang Li, Junfeng Wang, Wenwu Ding, Yuqiang Xu, Chongying Zhao, Chao |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 122 (2016) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |