|
Demonstration of higher electron mobility in Si nanowire MOSFETs by increasing the strain beyond 1.3% |
|
|
|
Titel: |
Demonstration of higher electron mobility in Si nanowire MOSFETs by increasing the strain beyond 1.3% |
Auteur: |
Luong, G.V. Knoll, L. Blaeser, S. Süess, M.J. Sigg, H. Schäfer, A. Trellenkamp, S. Bourdelle, K.K. Buca, D. Zhao, Q.T. Mantl, S. |
Verschenen in: |
Solid-state electronics |
Paginering: |
Jaargang 108 (2015) nr. C pagina's 5 p. |
Jaar: |
2015 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|