Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
   volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 1 van 20 gevonden artikelen
 
 
  A comparative mismatch study of the 20nm Gate-Last and 28nm Gate-First bulk CMOS technologies
 
 
Titel: A comparative mismatch study of the 20nm Gate-Last and 28nm Gate-First bulk CMOS technologies
Auteur: Rahhal, Lama
Bajolet, Aurelie
Manceau, Jean-Philippe
Rosa, Julien
Ricq, Stephane
Lassere, Sebastien
Ghibaudo, Gerard
Verschenen in: Solid-state electronics
Paginering: Jaargang 108 (2015) nr. C pagina's 8 p.
Jaar: 2015
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 1 van 20 gevonden artikelen
 
   volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland