|
Influence of post fabrication annealing on device performance of InAlN/GaN high electron mobility transistors |
|
|
|
Titel: |
Influence of post fabrication annealing on device performance of InAlN/GaN high electron mobility transistors |
Auteur: |
Luo, Xin Cui, Peng Linewih, Handoko Cheong, Kuan Yew Xu, Mingsheng Chen, Siheng Wang, Liu Sun, Jiuji Dai, Jiacheng Xu, Xiangang Han, Jisheng |
Verschenen in: |
Journal of physics and chemistry of solids |
Paginering: |
Jaargang 187 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2024 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|