|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 60 van 60 gevonden artikelen
| Titel: |
WSi x /WN/polysilicon DRAM gate stack with a 50Å WN layer as a diffusion barrier and an etch stop |
| Auteur: |
Lee, Heon Kim, Dong-Hwan Huh, Joo-Youl Kim, Deok-kee |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 8 (2005) nr. 5 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 60 van 60 gevonden artikelen
| << vorige |