|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 60 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of modification of S-terminated Ge(100) surface on ALD HfO2 gate stack |
| Auteur: |
Lee, Younghwan Park, Kibyung Im, Kyung Taek Lee, June Young Im, Seongil Lee, Jung Han Yi, Yeonjin Lim, Sangwoo |
| Verschenen in: |
Applied surface science |
| Paginering: | Jaargang 255 (2009) nr. 16 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 60 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |