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titel |
auteur |
tijdschrift |
jaar |
jaarg. |
afl. |
pagina('s) |
type |
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Caractérisation de revêtements PVD dans le Système V-C-N-O et comparaison avec les propriétés de revêtements similaires obtenus par OMCVD
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Farges, G.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 863-878
16 p.
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artikel
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| 2 |
Caractérisation mécanique par flexion, nano- et macro-indentation de revêtements de SiC par PACVD micro-onde sur acier
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Angelelis, C.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 891-898
8 p.
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artikel
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| 3 |
comportement en frottement sec de dépôts SiCx(H) (1,5<x<3) élaborés par PACVD micro-onde sur ACIER
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Boher, C.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 879-890
12 p.
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artikel
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| 4 |
Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium
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Abisset, S.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 695-706
12 p.
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artikel
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| 5 |
Dépôt de Cr à basse température par MOCVD: inhibition de l'incorporation du carbone
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Maury, F.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 681-693
13 p.
|
artikel
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| 6 |
Dépôts par plasma CVD micro-onde à partir de mélanges tétraméthylsilane Argon: Influence des parameters experimentaux
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Scordo, S.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 733-742
10 p.
|
artikel
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| 7 |
Détermination du module d'young de dépôts par flexion dynamique: Application aux systèmes bicouche et tricouche
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Mazot, P.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 821-827
7 p.
|
artikel
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| 8 |
Détermination du module d'young, de la dureté et de la contrainte d'écoulement plastique de dépôts par nano-indentation
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Angelelis, C.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 829-846
18 p.
|
artikel
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| 9 |
Etude par spectroscopie d'emission optique de decharges radiofrequence et micro-onde lors du depot chimique en phase vapeur (PACVD) dans le systeme Si-C-H-Ar
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Andrieux, M.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 743-752
10 p.
|
artikel
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| 10 |
Les différentes voies de modélisation macroscopique du procédé de dépôt de SiC par voie gazeuse
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Aubreton, J.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 753-789
37 p.
|
artikel
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| 11 |
Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4 (M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono-source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD
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Bonnefond, P.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 667-679
13 p.
|
artikel
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| 12 |
Modification de la tenue mécanique d'un dépôt type Si — C sur acier par incorporation d'une intercouche métallique
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Andrieux, M.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 847-861
15 p.
|
artikel
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| 13 |
Possibilités d'obtention de dépôts dans le système céramique ti-v-c-n à partir de sources moléculaires
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Valade, L.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 721-732
12 p.
|
artikel
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| 14 |
Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir dune phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N
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Maury, Francis
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1998
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23 |
5-6 |
p. 637-653
17 p.
|
artikel
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| 15 |
Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N
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Teyssandier, F.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 655-666
12 p.
|
artikel
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| 16 |
Propriétés mécaniques des films minces: problématiques et moyens de mesure
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Felder, E.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 791-819
29 p.
|
artikel
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| 17 |
Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD: Influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur ACIER
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Abisset, S.
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1998
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23 |
5-6 |
p. 707-720
14 p.
|
artikel
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Tijdschrift beschrijving