|
Characteristics of Inter Poly Dielectric (IPD) Prepared by Plasma Oxidation Treatment of LP-CVD SiO2 Film |
|
|
|
Titel: |
Characteristics of Inter Poly Dielectric (IPD) Prepared by Plasma Oxidation Treatment of LP-CVD SiO2 Film |
Auteur: |
Kim, J. H. Kim, Y. S. Jang, B. H. Namkoong, H. Lee, W. S. Leam, H. H. Nam, S. W. Kang, C. J. Ahn, T. H. |
Verschenen in: |
MRS proceedings |
Paginering: |
Jaargang 1108 () nr. 1 pagina's xx |
Jaar: |
2009-02-03 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer International Publishing, Cham |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|