|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 49 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching of scandium-doped aluminum nitride using inductively coupled plasma dry etch and tetramethyl ammonium hydroxide |
| Auteur: |
Shifat, A. S. M. Zadid Stricklin, Isaac Chityala, Ravi Kiran Aryal, Arjun Esteves, Giovanni Siddiqui, Aleem Busani, Tito |
| Verschenen in: |
MRS advances |
| Paginering: | Jaargang 8 () nr. 16 pagina's 871-877 |
| Jaar: |
2023-07-06 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer International Publishing, Cham |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 49 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |