|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Sequential conversion from line defects to atomic clusters in monolayer WS2 |
| Auteur: |
Ryu, Gyeong Hee Chan, Ren-Jie |
| Verschenen in: |
Applied microscopy |
| Paginering: | Jaargang 50 () nr. 1 pagina's xx |
| Jaar: |
2020-11-30 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Singapore, Singapore |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |