|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Study on Oxidant in Chemical Mechanical Polishing of Copper |
| Auteur: |
Rui, Xu Yongsheng, Wang Yipu, Wang Haixu, Liu Jianxiu, Su |
| Verschenen in: |
Transactions on electrical and electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 21 () nr. 6 pagina's 580-586 |
| Jaar: |
2020-06-06 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (KIEEME), Seoul |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |
Toegankelijkheidsverklaring