|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of the low-frequency source parameters on the plasma characteristics in a dual frequency capacitively coupled plasma reactor: Two dimensional simulations |
| Auteur: |
Xu, Xiang Ge, Hao Wang, Shuai Dai, Zhongling Wang, Younian Zhu, Aimin |
| Verschenen in: |
Progress in natural science |
| Paginering: | Jaargang 19 (2009) nr. 6 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
National Natural Science Foundation of China and Chinese Academy of Sciences |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |