|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis and Modelling of the LPC VD Annular Reactor |
| Auteur: |
Bismo, S. Duverneuil, P. Pibouleau, L. Domenech, S. Couderc, J. -P. |
| Verschenen in: |
Materials and manufacturing processes |
| Paginering: | Jaargang 10 (1995) nr. 2 pagina's 241-266 |
| Jaar: |
1995-03-01 |
| Inhoud: |
This paper presents the results of our work on a new type of CVD reactor, annular reactor. This equipment is able to deposit pure silicon and also in-situ phosphorus doped silicon on a large number of substrates |
| Uitgever: |
Taylor & Francis |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |