Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 15 van 31 gevonden artikelen
 
 
  Ferroelectric properties of PLZT thin films prepared using ULVAC ZX-1000 sputtering system
 
 
Titel: Ferroelectric properties of PLZT thin films prepared using ULVAC ZX-1000 sputtering system
Auteur: Chu, F.
Hickert, G.
Hadnagy, T. D.
Suu, K. K.
Verschenen in: Integrated ferroelectrics
Paginering: Jaargang 26 (1999) nr. 1-4 pagina's 47-55
Jaar: 1999-10-01
Inhoud: Thin films of Ca and Sr doped PLZT(3/40/60) were RF sputtered on 6-inch substrates using ULVAC CERAUS ZX-1000 magnetron sputtering system. The 2000 Å PLZT films showed good thickness uniformity across the wafer (less than ± 1.5%). The crystallized PLZT films are highly {111} textured. The 3V QSW is above 30 μC/cm2 and V90% is below 3.5V. After 109 fatigue cycles, 3V Qsw is still 29 μC/cm2. The films also showed good retention properties. 3V Qss(10year) = 12 μC/cm2, 3V QOS(10year) = 9 μC/cm2. The same process was utilized to run 1000 wafers on ZX-1000. The stable ferroelectric performance achieved during 100 kWh sputtering indicates good repeatability of the ZX-1000 mass production tool.
Uitgever: Taylor & Francis
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 15 van 31 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland