Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 5 van 8 gevonden artikelen
 
 
  RADIATION THERMOMETRY OF SILICON WAFERS IN A DIFFUSION FURNACE WITH ROD-TYPE AND PRISM-TYPE OPTICAL GUIDES
 
 
Titel: RADIATION THERMOMETRY OF SILICON WAFERS IN A DIFFUSION FURNACE WITH ROD-TYPE AND PRISM-TYPE OPTICAL GUIDES
Auteur: Watanabe, Tomoji
Hirasawa, Shigeki
Torii, Takuji
Takagaki, Tetsuya
Verschenen in: Experimental heat transfer
Paginering: Jaargang 3 (1990) nr. 4 pagina's 371-376
Jaar: 1990-11-01
Inhoud: This article examines the accuracy of radiation thermometry in measuring the temperature of silicon wafers in a diffusion furnace. This technique uses optical guides to bring thermal radiation from the wafers to the outside of the furnace. The error due to veiling glare of a rod-type optical guide is 40°C and that of a prism-type is 0.5°C at steady state.
Uitgever: Taylor & Francis
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 5 van 8 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland