|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
A Far Field Pattern Analysis Technique for Reflectarrays Including Mutual Coupling Between Elements |
| Auteur: |
Li, H.Institute of Applied Physics, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China Wang, B.-Z.Institute of Applied Physics, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China Guo, L.Department of Physics, Xinjiang Kashi Teacher's College, Kashi 844000, China Shaoand, W.Institute of Applied Physics, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China Du, P.Institute of Applied Physics, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China |
| Verschenen in: |
Journal of electromagnetic waves and applications |
| Paginering: | Jaargang 23 (2009) nr. 1 pagina's 87-95 |
| Jaar: |
2009-02-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Brill, Leiden/Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |