|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 6 gevonden artikelen
| Titel: |
Adhesion enhancement of magnetron-sputtered copper films by ion bombardment etching treatment of nickel and Inconel substrates: investigations by Auger electron spectroscopy and secondary ion mass spectroscopy of the ion beam effects |
| Auteur: |
Cahoreau, M. Lee, G.H. Caisso, J. Cailler, M. |
| Verschenen in: |
Journal of adhesion science and technology |
| Paginering: | Jaargang 5 (1991) nr. 11 pagina's 987-999 |
| Jaar: |
1991-01-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Brill, Leiden/Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 6 gevonden artikelen
| volgende >> |