|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 7 gevonden artikelen
| Titel: |
Adhesion strength of plasma-assisted CVD B(C,N) film to silicon substrate |
| Auteur: |
Nakamura, S. Saito, N. Yoshioka, S. Nakaaki, I. Suzaki, Y. |
| Verschenen in: |
Journal of adhesion science and technology |
| Paginering: | Jaargang 13 (1999) nr. 5 pagina's 615-627 |
| Jaar: |
1999-01-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Brill, Leiden/Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 7 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |