|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 194 van 308 gevonden artikelen
| Titel: |
Reflection mode XAFS investigations of reactively sputtered thin films |
| Auteur: |
Lützenkirchen-Hecht, Dirk Frahm, Ronald |
| Verschenen in: |
Journal of synchrotron radiation |
| Paginering: | Jaargang 8 (2001) nr. 2 pagina's 478-480 |
| Jaar: |
2001-03-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 194 van 308 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |