|
XAFS studies of Al/TiNx films on Si(100) at the Al K- and L3,2-edge |
|
|
|
Titel: |
XAFS studies of Al/TiNx films on Si(100) at the Al K- and L3,2-edge |
Auteur: |
Zou, Z. Hu, Y. F. Sham, T. K. Huang, H. H. Xu, G. Q. Seet, C. S. Chan, L. |
Verschenen in: |
Journal of synchrotron radiation |
Paginering: |
Jaargang 6 (1999) nr. 3 pagina's 524-525 |
Jaar: |
1999-05-01 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|