|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
In Situ Detection of Surface SiHn in Synchrotron-Radiation-Induced Chemical Vapor Deposition of a-Si on an SiO2 Substrate |
| Auteur: |
Yoshigoe, A. Nagasono, M. Mase, K. Urisu, T. Seki, S. Nakagawa, Y. |
| Verschenen in: |
Journal of synchrotron radiation |
| Paginering: | Jaargang 2 (1995) nr. 4 pagina's 196-200 |
| Jaar: |
1995-07-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |